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E-RPNS600M腔室高頻脈衝等離子滲氮爐
E-RPNS600M腔室高頻脈衝等離子滲氮爐

E-RPNS600M腔室高頻脈衝等離子滲氮爐

Product Introduction

探索具備雙熱源、AI驅動控制、次100μm深擴散及符合AMS 2750/2759航空航天標準的E-RPNS高頻脈衝等離子滲氮爐。高效提升表面硬度及耐磨性。
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E-RPNS系列代表了一款為高端製造設計的尖端鐘罩式脈衝離子滲氮系統。整合雙熱源加熱、AI智慧控制與航太級處理標準,E-RPNS爐具可實現超快速處理時間、卓越的層均勻性與深擴散性能,同時大幅降低能耗。

技術規格概述

  • 爐體架構:鐘罩式腔體配置

  • 電源類型:高頻脈衝直流/等離子源

  • 溫度均勻性:±5°C(主動加熱壁系統)

  • 處理時間:1-2小時(視應用而定)

  • 擴散層深度:>100 μm

  • 最大自訂溫度:高達900°C(用於鈦/特殊合金)

  • 工藝相容性:等離子滲氮、氮碳共滲、後氧化

  • 工業認證:AMS 2750/AMS 2759航太標準

主要特點與技術優勢

1. 雙熱源協同加熱(雙熱模式)

  • 複合加熱系統:利用輔助加熱系統搭配高能離子轟擊,實現快速且均勻的熱分佈。

  • 精確熱補償:輔助加熱模組維持腔體整體溫度均勻性,使等離子源可完全專注於產生高密度活性離子。

  • 全域主動加熱壁:整個腔體壁主動加熱至精確的工藝操作溫度,顯著降低工件間的熱梯度,溫度均勻性在±5°C以內。

  • 優異隔熱性能:封閉式全包裹隔熱設計大幅減少輻射熱損失並降低能耗。

2. 智慧AI控制與高速效率

  • AI智慧晶片控制:由先進AI微處理器驅動,實現全流程自動化、精確參數調控與高操作可靠性。

  • 超快速處理:極高的等離子電離效率縮短週期時間。滲氮處理可在短短1-2小時內完成,效率較傳統工藝提升數倍。

3. 深擴散與優異微結構

  • 超深擴散層:可實現超過100 μm的擴散層深度與優異結合力,顯著提升疲勞抗性與磨損壽命。

  • 高密度與均勻性:均勻的等離子密度分佈消除孔隙與針孔缺陷,形成極為緻密且一致性極高的化合物層。

4. 多功能、安全與環保操作

  • 無弧與環保:採用純氮氣化學工藝,無起弧風險,提供符合嚴格全球環保標準的綠色無污染流程。

  • 多工藝能力:支援離子滲氮、氮碳共滲及離子滲氮+後氧化工藝。

  • 高溫自訂:提供高達900°C的自訂高溫配置,用於鈦合金、鉭合金與特殊金屬的專業滲氮。

  • 航太認證:完全符合AMS 2750與AMS 2759航太工藝標準設計。